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半导体区熔

硅、锗等半导体材料的区熔提纯设备。

半导体区熔

适用范围
硅、锗等半导体材料的区熔提纯设备。

技术特点
①采用真空区熔工艺，感应器通过变频机构缓慢移动，速度可调节。
②固态高频MOSFET电源，设备体积小；恒功率控制技术，工艺稳定。
③与原电子管高频电源相比，节电率30%以上，并且工艺可控性好。
④低压谐振，电磁辐射小，工作环境安全。
⑤采用PLC+HMI，可实现自动加热控制，方便灵活。
 
 

典型图例

锗提纯

 

锗提纯

锗提纯设备


          

 

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